光刻胶SPR955 MEGAPOSIT SPR955-CM系列光刻胶是一种通用的、高分辨率的i-Line光刻胶，可用于0.35µm的前端和后端应用。也与底层胶LOR/PMGI-SF搭配，做lift-off 工艺

AZ1500系列G线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶 为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶 特征： 1) 高感光度,高产出率 2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进 3) 广泛应用于*半导体行业

AZ1500系列G线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶 为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶 特征： 1) 高感光度,高产出率 2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进 3) 广泛应用于*半导体行业

AZ1500系列G线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶 为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶 特征： 1) 高感光度,高产出率 2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进 3) 广泛应用于*半导体行业

AZ1500系列i线光刻胶高感光度标准G线正型光刻胶 为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶 特征： 1) 高感光度,高产出率 2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进 3) 广泛应用于*半导体行业

shipley s1813光刻胶 S1800系列， 正胶、紫外光刻胶。 光源推荐：g-Line，也可以用于宽谱。 单层厚度：0.4-2.7um。 型号： S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2 应用： 应用于湿法腐蚀和干法刻蚀，也与底层胶LOR搭配，做lift-off 工艺。